Vol. 44 (2008), Issue 4, p. 9-16

ELECTRICAL SURFACE TREATMENT METHODS

Особенности осаждения хрома при использовании индуктивно-емкостного устройства

Гологан В.Ф., Бобанова Ж.И., Ивашку С.Х.

Abstract

УДК 621.35 + 621.9.047

 

Приведены экспериментальные данные, полученные при различных параметрах индуктивно-емкостного устройства. Изменяя значения индуктивности и емкости, можно оказывать существенное влияние на кинетику и производительность процесса осаждения хрома.

 

The experimental data received at various parameters of the inductance-capacitor device are presented. It is possible to change kinetics and productivity of chromium plating process by varying inductance L and capacity C of the device keeping other conditions of electrolysis identically.

 

Download full-text PDF. 773 downloads

Web-Design Web-Development SEO - eJoom Software. All rights reserved.