Конструкция и технология изготовления тестовой матрицы для электрофизических исследований пленочных токопроводящих систем

Аннотация

УДК 621.382.12

На основе экспериментальных исследований конструктивно-технологических вариантов структур оперативного контроля разработан тестовый модуль для комплексной оценки качества и надежности пленочных токопроводящих систем СБИС, прошедший апробацию в условиях реального производства.

The drop-in and geometry design photomask for testing metallization of VLSI was constructed on base experimental investigation of construction and technology especially of array testing.

Скачать полнотекстовый PDF. 117 скачиваний

Menu

Том 36 (2000), Номер 4, стр. 72-76

Конструкция и технология изготовления тестовой матрицы для электрофизических исследований пленочных токопроводящих систем

Аннотация